Beanie aus Strukturstrick mit Druck

Produktinformationen "Beanie aus Strukturstrick mit Druck"
Mütze aus feinem Interlock mit leicht strukturierter Oberfläche. Dezenter Ton-in-Ton Allover-Druck mit Wald-Motiv. Mit Kante zum Umklappen. Fähnchen an der Kante. Made In Portugal. Waschbar bei 30°C.
Materialzusammensetzung: 100% Baumwolle (kbA)
Zertifikate: GOTS